Photoresist   감광제

(2021-08-21)

포토 레지스트, Photosensitive Film, 감광막, Photosensitive Material, 감광 재료


1. 감광제, 감광막

  ㅇ 감광제 (Photoresist)
     - 기판,박막 위에 도포되어서 감광막을 형성시키는 재료 또는 성질
        . 통상, 마스크를 통해 선택적으로 에 노출시킴

  ㅇ 감광막 (Photosensitive Film)
     - 기판,박막 위에 감광제가 도포되어 형성된 `반응성 막`을 지칭

  ㅇ 감광제 재료 / 감광 재료 (Photosensitive Material)
     - 자외선 등에 민감한(반응하는) 점착성 재료
        .  또는 열 등 에너지에 노출되었을 때 내부 화학구조가 바뀌는 혼합물
        . 요구 특성 : 얇고 균일한 도포가 가능하고, (자외선)에 대한 감도가 좋아야 함


2. 감광제 종류

  ㅇ 양성 감광제 (Positive) : 이 쬐인 부분이 현상액에 녹음 (더 많이 쓰임)
  ㅇ 음성 감광제 (Negative) : 이 쬐인 부분이 현상할 때 녹지 않음


3. 감광제 구성용매 (Solvent)      : 감광막을 용해시킬 때 사용
  ㅇ 중합체 (Polymer)    : 감광막의 기계적 성질을 결정함
  ㅇ 감응제 (Sensitizer) : 자외선 을 받으면 화학 반응을 일으킴
     - 요구사항 : 노출 시간 단축 및 고른 노출이 중요함
  ㅇ 첨가물 (Additive)   : 광 화학 반응의 정밀 조절용(최적 해상도) 첨가제



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