Lithography, Photo-lithography   리소그래피, 리소그라피, 광 리소그래피, 포토 리소그래피

     (수정일:2016-03-22)

  [집적공정]   [리소그래피]   
  1. 리소그래피(Lithography), 광 리소그래피(Photo-lithography)
    1. 원래, 리소그래피는 석판 인쇄 또는 평판 인쇄라고하는 것
    2. 반도체 웨이퍼 표면에 마스크 패턴 이미지를 옮기는 공정
      1. 뒤이은 이온주입식각 공정을 위해 웨이퍼 상에 회로구조를 광학적으로 인쇄하는 것
  2. 리소그래피 주요 공정
    1. 공정 요약
      1. 마스크 패턴 이미지에 따라 웨이퍼 표면의 감광막에 도달하면,
      2. 감광막에 반응하여 화학반응을 일으켜 광학패턴이 옮겨짐
    2. 주요 공정 순서
      1. 실리콘 웨이퍼 세정 및 표면처리
      2. 스핀 코팅/도포(Coating) : 웨이퍼 전체에 균일 두께의 감광제를 입히는 과정
      3. 소프트 베이크(Soft Bake) : 마르지 않은 감광제 용제를 증발시키는 열처리 과정
      4. 노광/노출(Exposure) : 포토 마스크 패턴웨이퍼 표면으로 옮기는 작업
      5. 현상(Develope) : 식각 시킬 부위의 감광막 제거 과정
      6. 하드 베이크(Hard Bake) : 잔류 용제를 증발시켜 밀착력 향상, 막의 정밀도를 높여 식각 등 후속 공정을 위한 마무리 과정
    3. 후속 공정 : 식각
      1. 식각(Etching) : 노광 과정 후 원하는 부위 만 선택적으로 제거시키는 공정
      2. 제거(Removing): 감광제를 제거(Strip)하는 등을 포함한 세정(Cleaning) 공정

[리소그래피]
1. 리소그래피 2. 감광제 3. 마스크 4. 노광

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